闡述等離子鍍膜設備的使用所具備的優勢

　　等離子鍍膜設備是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。

　　等離子鍍膜設備優勢：
　　1、AF噴涂設備采用原裝德國進口納米噴頭，噴頭采用高低壓轉換霧化設計，使液態分子極精細，且不影響藥水效果；
　　2、鋨存儲器可拆卸：具有密封式結構，可冷凍保存；
　　3、理論設計產能3000片-4000片/小時；
　　4、噴嘴運動速度及輸送線速度均可調，極大的提高生產效率，滿足各種用戶需求；
　　5、控制噴涂藥量，提高藥水的霧化能力，使膜層與玻璃能均勻的結合，提高產品噴涂的均勻性，增大膜層表面爽滑度；
　　6、采用雙等離子處理， 鍍膜前對工件進行清潔處理， 降低工件本身附帶的雜質，使玻璃表面與膜層發生附和反應，提高膜層結合的牢固度，提升產品的抗老化以及耐摩擦能力，使鍍膜品質更高；
　　7、自動化控制，鍍膜時只需設定薄膜厚度，鍍膜過程自動完成；
　　8、恒定流量控制系統，保證藥水平穩恒定的供流，而非波浪線式供流，解決白霧現象；
　　9、鍍膜時間短：只需幾秒鐘膜厚就可以達到納米級；
　　10、裝有互鎖回路：一但 OsO4 氣體進入腔體，真空不達標，腔體就無法打開。