3靶等離子濺射儀的原理和應用特點

　　3靶等離子濺射儀加熱溫度為500℃，控制面板為觸摸屏模式，可濺射三種靶材，放置直徑50mm樣品。通過旋轉樣品臺，可以將金靶、銀靶和銅靶三種材料依次涂覆在同一樣品上，可接真空泵、不銹鋼波紋管、kfd25快卸夾。

　　3靶等離子濺射儀是緊湊型等離子薄膜濺射儀（直流普通型）。控制面板采用觸摸屏方式。基板的極限尺寸為2"，放置樣品的直徑為Ø50mm，加熱溫度高達500℃，可濺射金、銀、銅靶材，但不能輕金屬和碳，本機采用旋轉樣品臺，可在同一樣品上依次鍍三層薄膜，適用于實驗室鍍膜樣品的制備。采用PLC控制面板控制設備，操作方便，該機設備體積小，實驗室空間小，操作簡單，適用范圍廣，因此被廣泛應用于大專院校和科研院所的實驗室。

　　1、PLC控制面板，4.3"觸摸屏，PID溫度控制方式。

　　2、可控參數包括真空度、電流、目標位置和基板加熱溫度。

　　3、可配真空泵、不銹鋼波紋管kfd25快卸夾。

　　4、已通過CE認證。

　　3靶等離子濺射儀是基于直流濺射原理的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。該機的特點是在一個真空室中安裝了三個靶材，旋轉的樣品臺可以在同一個樣品上依次涂布三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導電材料實驗電極的制備。