PECVD管式爐（小型滑動）

特點

• 與普通CVD相比可以在低溫環境下進行氣相沉積實驗 
• 可以通過爐體滑動達到快速升溫和降溫
• 對于薄膜的應力可以通過射頻電源的頻率來進行控制 
• 通過工藝調節來控制化學計量 
• 可以沉積各種材料，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等.

開啟式管式爐

• 輸入電源: 208 – 240V AC,功率： 1.2kW
• zui高工作溫度1200°C，小于60分鐘
• 爐膛保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維，并且內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，反射率及延長儀器的使用壽命（點擊文字了解涂層的詳細參數）
• 連續工作溫度1100°C
• 爐管采用高純石英管：50mmOD x 44mmID x 1000mm L
• 可設置30段升降溫程序，并且帶有過熱和斷偶保護功能
• 加熱區長度：200mm 單溫區. 
• 恒溫區2.3" (60mm)  (+/-1°C) @ 1000°C
• 以下圖片顯示加熱區的溫度曲線圖         
  (點擊圖片查看詳細資料）

等離子體射頻電源

• 輸出功率:          5 -300W 可調 穩定性± 1% 
• 射頻電源頻率:          13.56 MHz 穩定性±0.005% 
• zui大反向功率:      200W 
• 匹配:  自動      
• 射頻電源電子輸出端口:        50 Ω, N型半導體, 陰極
• 噪音:                      <50 dB. 
• 冷卻:                風冷
• 電源 :                208-240VAC, 50/60Hz

真空法蘭和接頭

• 真空法蘭采用 304不銹鋼制作. 
• 左端法蘭上安裝有 KF-25真空接口，2個KF-25快速卸裝卡箍，KF-25直角閥，KF-25真空波紋管和1/4軟管接頭和不銹鋼針閥

真空泵

• AC 220V 50 Hz  1/2HP  375W
• 2 Liter /S 
• 出氣端安裝有油霧過濾器（防止油霧擴散到空氣中，保護環境和人體健康）
• 真空度:  10-2 torr
  

產品尺寸和重量

• 外形尺寸 1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)
• 凈重: 160kg

質保期

一年質保期，終身維護，（相關耗材除外，如爐管，密封圈等易耗件）

質量認證

CE Certified