OTF-1200X-L12是一款小型開啟式管式爐，其Z高工作溫度可達到1000℃，爐管可以選用直徑為100mm或130mm的石英管，并且可配一套不銹鋼密封法蘭（上面安裝有不銹鋼截止閥和通氣接口），可在真空或氣氛保護環境下對樣品進行熱處理?？刂葡到y與爐體分開，可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1℃。

GSL-1700X-VTQ是一款通過UL認證的立式真空管式淬火爐，標配有直徑60mm的莫來石管和一個用于樣品淬火的液體密封容器。該設備實驗時可以使樣品從高溫環境下（Z高1700度）快速落入冰水或油中，非常適合用于研究材料相變和微結構性能。

GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系統，針對于合成各種納米結構氧化物。此款儀器有三個主要模塊組成：超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成。材料制作大概分為三個步驟：前驅體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統是一款非常先進的合成系統，可控制器顆粒尺寸，形態，納米/微粒結構。

MSK-MR100DC 軋輥轉速可調電動輥壓機是一款可通過UL/CSA認證的電動輥壓機，此設備軋輥尺寸為：Φ100mm×100mm，采用的是可變速24VDC電器驅動，所以可在Ar氣環境中使用。本軋機特別適合對電池極片進行輥軋，常常用于鋰離子電池和鈉離子電池的制備。

OTF-1200X-V-H4是一款UL/TUV標準的氫氣管式爐，主要設計用于對磁性材料進行氫爆處理或對材料在氫氣環境下進行熱處理。此款管式爐有5個溫區（分別采用獨立的的溫控系統控制），爐管材料為310不銹鋼，尺寸為Φ100mm*1500mm.設備中配有一3M的氫氣探測器，當探測到有氫氣泄露，將自動關閉氫氣進氣閥和出氣閥，以達到安全。

OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動（靠步進電機控制）的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備Z高工作溫度為1200℃。 設備特點：坩堝通過一步進電機控制爐管，按照設定程序移動，同時坩堝后端安裝一熱電偶（隨坩堝儀器移動），可實時監測樣品的溫度，意味著可通過移動坩堝的位置，在爐體中準確找到實驗所需要的溫度，使得實驗準確度更高，重復性更強。此款設備可用于多種實驗，比