OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個特殊的雙管CVD系統,是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐子實現快速加熱和冷卻。請點擊下圖觀看爐子的工作原理。

單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置dia3”x55” 石英管，工作溫度Z高達1200°C。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率Z大可達100°C/m。為取得Z快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得Z快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s，是低成本快

OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4“ 石英管和真空法蘭， 它是專為半導體或太陽能電池基片（Z大達3“）的退火而設計，采用10KW紅外燈管加熱Z快升溫速度為 50°C/秒. 30 段溫度控制，精度為 +/-1°C. 計算機通過RS485口和控制軟件實時控制爐子和顯示溫度曲線 。

OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通過CE認證的雙溫區可旋轉管式爐，此款設備專門針對于材料的混合燒結，特別適用于鋰離子電池材料的混合燒結，如 LiFePO4、LiMnNiO4等。設備爐管直徑為4“，采用兩個溫區進行加熱可以提供更長的加熱區域和恒溫區。

GSL-1100X-6-S 是一款爐管內徑為 6“ 的真空管式爐 , 它可以在Z大5“的基片上生長多種薄膜（在不同氣氛下）. 該爐的Z高工作溫度為 1100°C, 采用30段可編程PID數字溫度控制器，溫控精度: ±1°C。

GSL-1100X-S是一款已通過CE認證的小口徑管式爐（1～2“直徑）,是專為制備小樣品而設計。Z高溫度可達1100℃。標配內包含不銹鋼密封法蘭與石英管，客戶接通電源即可立即使用。30段可編程精密溫度控制器,可根據不同的客戶需求來設定升降溫程序?？販鼐?#177;1℃。爐體可垂直或水平放置以滿足不同的應用,如VSL、CVD 、等淬火試驗.